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陶瓷膜是近年来新出现的新型阻隔包装膜材料,陶瓷膜的生产工艺与镀铝膜生产相似,也是采用真空镀膜的方法。目前用于包装领域的陶瓷膜主要有SiO2(氧化硅),Al2O3(氧化铝),TiO2(氧化钛)等。透明阻隔膜相对传统的镀铝阻隔膜最大的优势在于消费者可以清楚地透过包装材料看到商品本身,而且,在高速包装过程中,透明阻隔材料不会对被包装商品产生任何金属污染。由于SiO2(二氧化硅),Al2O3(三氧化二铝),TiO2(氧化钛)的熔点均超过1500℃,远超过金属铝的熔点(约660℃),陶瓷膜的生产相比更加困难,必须采用专用的真空镀膜设备进行生产,这也是导致陶瓷膜生产成本较高的主要原因。一般来说,透明阻隔膜是传统的镀铝阻隔膜价格的2~3倍。如何降低现有生产工艺设备的生产成本是当前的研究热点。透明阻隔膜制备方法众多,目前已经用于生产的工艺方法可分为以下五类:一、采用感应热蒸发加热氧化硅材料制备氧化硅膜材料。该工艺与传统的电阻蒸发真空镀铝设备比较相近,主要差别在于采用了感应蒸发系统替换电阻蒸发系统,因此设备投资与镀铝膜相近。通过40K HZ的高频感应线圈对坩埚进行加热,坩埚材质一般为钼坩埚或钨坩埚,感应加热方式可以使坩埚达到2000-2500℃以上,而且加热温度场均匀。这样的温度可以比较容易的蒸发SiO(一氧化硅)材料。通过加装质量流量系统向腔体冲入适量的氧气,可以避免氧化硅膜层出现色差。最终形成的陶瓷膜成分为SiOx,其中2x1,表明膜层具有一定氧缺陷。有的方法制备氧化硅膜的基材为普通的25微米厚度的OPP材料,制备得到的氧化硅陶瓷膜阻隔率可以达到0.1克/平方米·天的水平。此种方法最大的缺点为所采用的蒸发料为SiO(一氧化硅),该原材料成本较贵直接导致生产的氧化硅陶瓷膜单价较贵。采用SiO(一氧化硅)镀层制备的高阻隔包装膜也可以达到0.1克/平方米·天氧气阻隔能力,并...
发布时间: 2018 - 08 - 17
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高性能陶瓷涂层也称精细陶瓷涂层、先进陶瓷涂层、新型陶瓷涂层,是继有机树脂涂层、金属及合金涂层之后出现的一类非金属无机涂层的总称 。
发布时间: 2018 - 07 - 05
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陶瓷材料的脆性是物质的化学键合性质和它的显微结构所决定的,因此要解决它并不是一件容易的事。但是可以通过一定的途径来减缓它对材料的损害,以改善陶瓷材料的性能,这习惯上称为改善陶瓷的脆性。陶瓷材料的脆性是可以在很大程度上得到改善的,增韧的主要机理有以下几种。
发布时间: 2018 - 07 - 03
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笼式粉碎机属中型卧式笼条粉碎机。该机是根据冲击破碎原理设计而成的,内外两组笼条作高速相向旋转,物料自内而外通过笼条撞击而粉碎,具有结构简单,粉碎效率高、密封性能好,运转平稳,便于清理、维修方便等特点。在矿山、建材、化工、饲料、食品、医药、塑料等行业中广泛应用,主要适用于对一些低硬度物料的粉碎。
发布时间: 2018 - 07 - 02
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流化床气流粉碎机是德国Alpine公司于20世纪80年代初期研制出来的一种较为新颖的粉碎设备。流化床气流磨的独到之处在于其将传统的气流磨的线、面冲击粉碎变为空间立体冲击粉碎,并将对喷冲击所产生的高速射流能利用于粉碎室的物料流动中,使磨室内产生类似于流化状态的气固粉碎和分级循环流动效果,提高了冲击粉碎效率和能量利用率。
发布时间: 2018 - 06 - 30
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自从1942年第一座核反应堆在美国建立,核工业已经发展了将近70年。其间核工业的发展中心从核武器转移到了核能应用上,目前各国又开始共同研究聚变核反应堆。在这期间应用于核工业中的材料也在不断发展,其中陶瓷材料则在核工业中的材料选择上受到重视,并广泛地应用于核反应堆原料、组件以及核废料处理等各个方面。
发布时间: 2018 - 06 - 29
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