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激光加工SiC碳化硅:现状、应用与挑战!
碳化硅(SiC)具有优异的机械、热学与电学性能,已成为半导体、高温设备和耐磨涂层等先进工业领域的关键材料。激光加工凭借其高精度、高效率及复杂几何形状加工能力,在SiC制造中发挥着重要作用。特别是超快激光技术的发展,显著提升了SiC加工质量与效率,进而推动了半导体等高技术行业对SiC加工技术的迫切需求。
22 Jun MORE→ -

超细陶瓷粉体分散性难题的成因及解决方案
超细陶瓷粉体(通常指一次粒径小于1微米,特别是小于100纳米的粉体)是制备高性能结构陶瓷(如氧化铝、氮化硅、碳化硅)和功能陶瓷(如压电陶瓷、微波介质陶瓷、透明陶瓷)的基础。
18 Jun MORE→ -

氮化硅陶瓷粉末的制备方法
氮化硅( Si3N4 )是一种由硅和氮组成的共价键化合物,1857 年被发现,到 1955 年,其作为陶瓷材料实现了大规模生产。氮化硅陶瓷具有金属材料和高分子材料所不具备的众多优点,如耐高温(在 1200 ℃下抗弯强度可达 350 MPa 以上)、耐酸碱腐蚀、自润滑等,在航空航天、国防军工、机械领域得到广泛应用。
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一文详细解读AlN陶瓷高温烧结设备及其关键技术
针对以“新基建”为代表的通信领域对高功率、高性能微波组件的需求,阐述了氮化铝陶瓷基板的优点和工艺复杂性。基于此,开发了高温烧结设备,进行氮化铝陶瓷高温烧结工艺试验,分析了烧结温度及时间、升降温速率、气体流量及炉体压强等因素对高温烧结产品性能的影响。
12 Jun MORE→






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